SC100-DE勻膠顯影機

SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。

　　不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和*的可重復(fù)性。

主要性能指標：

• 主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）
• 旋涂程序：zui多可存100組程序，每組100步，每個步驟可精確到0.1秒
• 轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）
• 旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）
• 馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
• 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm
• 工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec
• 支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）
• 標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）

產(chǎn)品特性優(yōu)點：

• 主機在SC100-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
• 全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果
• 可實現(xiàn)zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干
• 控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便
• 顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置
• 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
• 高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
• 可添加去邊膠和背膠清洗功能